고출력 스퍼터링
UBMS
(Unbalanced Magnetron Sputtering)
마그네트론 스퍼터의 단점인 전자뿐만 아니라 타겟 주위에 구속시켜 이온충돌을 감속시키는 문제점을 해결하기 위한
방법으로 타겟 뒷면의 자기장의 세기를 변화시켜 플라즈마가 기판방향으로 퍼저 나가도록함으로 이온의 흐름을
유도하는 기술입니다.
밀도가 증가하여 코팅 품질 향상
BMS Sputtering의 보다 증착 속도가 향상
기판의 가열 감소
사용 압력(진공도) 낮음
UBMS(Unbalanced Magnetron Sputtering)
마그네트론 스퍼터의 단점인 전자뿐만 아니라 타겟 주위에 구속시켜 이온충돌을 감속시키는 문제점을
해결하기 위한 방법으로 타겟 뒷면의 자기장의 세기를 변화시켜 플라즈마가 기판방향으로 퍼저 나가도록
함으로 이온의 흐름을 유도하는 기술
BMS Sputtering의 보다 증착 속도가 향상
밀도 증가로 인한 코팅 품질 향상
기판의 가열 감소
사용시 압력(진공도) 낮음
